勻膠機是在高速旋轉的基片上，滴注各類(lèi)膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。該設備主要用于晶片涂光刻膠，有自動(dòng)、手動(dòng)和半自動(dòng)三種工作方式。
 

　　勻膠機的工作過(guò)程：
 

　　送片盒中的晶片，自動(dòng)送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動(dòng)下旋轉，轉速100-9900轉/分(±10轉/分)，起動(dòng)加速度可調。
 

　　每道程序的持續時(shí)間，轉速、加速度、烘烤溫度、烘烤時(shí)間、預烘時(shí)間等工藝參數均可通過(guò)編程控制。
 

　　勻膠機有一個(gè)或多個(gè)滴膠系統，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉滴膠。隨著(zhù)晶片尺寸的增大，出現了多點(diǎn)滴膠或膠口移動(dòng)式滴膠。
 

　　膠膜厚度一般在500-1000nm，同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和薄膜式兩種，并有流量計進(jìn)行恒量控制。對涂過(guò)膠的晶片有上下刮邊功能，去掉晶片正反面多余的光刻膠。
 

　　烘烤工位，有隧道式遠紅外加熱，微波快速加熱以及電阻加熱的熱板爐等。涂膠后的晶片要按一定的升溫速率進(jìn)行烘干。烘烤過(guò)程在密封的爐子中進(jìn)行，通過(guò)抽真空排除揮發(fā)出來(lái)的有害物質(zhì)。前烘結束后，將晶片送入收片盒內。
 

　　主軸轉速的穩定性和重復性是決定膠膜厚度均勻性和一致性的關(guān)鍵，起動(dòng)加速度的大小是決定是否能將不同粘稠度的光刻膠甩開(kāi)并使膠均勻的決定因素。